三星電子、世界初１０ナノ工程を量産

三星（サムスン）電子は、韓国内外システム半導体業界では初めて１０ナノ（ナノメートル）工程の量産を開始したと、１７日明らかにした。１０ナノ工程適用製品は、三星電子が来年初めに発売するスマートフォンの次期作「ギャラクシーＳ８」などに搭載されるものとみられる。

三星電子は昨年１月、モバイルアプリケーションプロセッサー（ＡＰ）に業界では初めて１４ナノ工程量産を開始した。

三星電子が今回量産した１０ナノ第１世代工程は、従来の１４ナノ第１世代比性能が２７％も改善された。消費電力は４０％減ったものの、ウェーハー１枚当たりのチップ生産量は約３０％増えた。

三星電子側は、「１０ナノ工程の量産のためには、１４ナノ工程より一段と精巧で微細な回路を書き込む『パターニング』作業が必要だ」とし、「従来の装備を活用して、パター二ング過程を３回繰り返す『トリプルパター二ング』技術を採用することで、微細工程の限界を克服し、設計の柔軟性を確保した」と説明した。

三星電子は昨年から、１４ナノ生産工程を世界初で商用化した技術力を打ち出して、ライバル会社各社とのモバイルＡＰ委託生産（ファウンドリー）の格差を広げている。特に、ファウンドリーの最大手ライバルメーカ―である台湾のＴＳＭＣとは１０数年にわたって、相互に二転三転しながら技術競争を続けている。電子業界では現在、１６ナノ工程量産中のＴＳＭＣも、早ければ年内に１０ナノ工程量産が可能とみられ、両社の競争はさらに激しさを増すものとみられる。

ＴＳＭＣはまず、１０ナノ工程を短期間に活用後、７ナノ量産に本格的に取り掛かるものとみられる。一方、三星電子は、７ナノ開発に必要な装備技術は依然安定性が落ちると判断し、１０ナノ工程技術をより長期的に持っていくという戦略を選んだという。

実際、三星電子は同日、「１０ナノ第１世代工程量産を皮切りに、来年は性能を向上させた第２世代工程量産を目標に開発している」とし、「第２世代以降も引き続き性能改善や派生工程拡大を通じて、１０ナノ工程を長期間活用する計画だ」と発表した。

電子業界の関係者は、「１４ナノを先に量産した三星電子を追従する立場であるＴＳＭＣとしては、後で三星電子が一歩リードすることまでを計算に入れて、技術開発競争を繰り広げなければならないため、今更敢えて１０ナノ技術に「オールイン」するのはあまり意味がないと受け止めたかもしれない」と解釈した。

電子業界によると、ＴＳＭＣはアップルの次期作「アイフォーン８」専用モバイルＡＰである「Ａ１１」ファウンドリーを独占受注した。三星電子は、クアルコムの次期モバイルＡＰ生産を担当したという。

김지현기자　キム・ジヒョン記者 jhk85@donga.com