삼성전자, 60나노 적용 2기가비트 원낸드 개발

삼성전자는 60나노 공정을 적용해 만든 2기가비트(Gb) 원낸드(사진)를 개발했다고 27일 밝혔다.

이는 반도체 회로선의 폭이 60nm(나노미터·1nm는 10억분의 1m)로 줄어들었음을 뜻한다. 회로선의 폭이 좁아지면 하나의 반도체 원판에 넣을 수 있는 부품 수가 그만큼 많아져 고집적 제품 생산이 가능하다. 원낸드는 속도가 빠르면서도 대용량의 정보를 저장할 수 있는 차세대 퓨전 반도체로 개인용 컴퓨터(PC)와 디지털 카메라, 디지털 TV 등 다양한 제품에 쓰인다.

이상록 기자 myzodan@donga.com