삼성전자가 네덜란드의 반도체 리소그래피 장비업체인 ASML에 총 7억7900만 유로(약 1조1000억 원)를 투자한다. 삼성전자는 5억300만 유로를 투자해 ASML의 지분 3.0%를 인수하고 이와 별도로 5년 동안 2억7600만 유로를 ASML의 차세대 리소그래피 기술 연구개발(R&D)에 투자하기로 했다고 27일 공시했다.
ASML은 반도체 미세회로 패턴 형성에 필요한 극자외선 리소그래피 기술을 갖고 있다. 리소그래피란 반도체의 원판인 웨이퍼에 설계된 회로를 입히는 기술의 일종이다.
ASML은 지난달 초 인텔, TSMC, 삼성전자 등 3개사에 공동투자를 제안했으며 삼성전자에 앞서 인텔은 41억 달러, TSMC는 14억 달러의 투자계약을 맺었다.
삼성전자는 이번 투자가 차세대 리소그래피 기술 개발 시기를 앞당겨 반도체산업 발전에 도움이 될 것으로 기대했다.
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