이공계 美유학 비자발급 쉬워진다

미국 국무부는 미국 경쟁력 약화의 원인으로 지적받아 온 이공계 유학생 및 근로자에 대한 까다로운 비자 허가 절차를 개선하겠다고 11일 발표했다. 이로 인해 한국을 비롯한 각국의 이공계 유학생 및 연구자들의 미국 입국 및 재입국 절차가 간편해질 것으로 보인다.

국무부 발표에 따르면 앞으로 F(유학)비자는 학업이 남아있는 경우 최장 4년까지, J(문화교류)비자, H(임시근로자)비자, L(지사 전근자)비자의 경우 최장 2년까지 비자 유효기간이 연장된다. 단기 관광비자도 체류기간이 최장 1년으로 연장된다.

국무부는 특히 최장 67일까지 걸렸던 비자 발급기간을 평균 2주 이내로 단축시키겠다고 밝혔다.

지금까지 정보기술(IT) 등 민감한 과학기술 분야의 유학생과 해외근로자들은 ‘비자스 맨티스’(Visas Mantis)라고 불리는 특별허가를 매년 국무부와 국토안보부로부터 받아야 했다. 이는 기술의 해외 유출을 막기 위해 1998년부터 도입됐으며 2001년 9·11테러 이후 더욱 강화됐다.

미국 학자들과 기업 관계자들은 그동안 까다로운 비자 발급절차 때문에 미국이 기술강국의 지위를 잃을지도 모른다고 비판해 왔다.

빌 게이츠 마이크로소프트(MS)사 회장은 지난달 스위스 다보스에서 열린 세계경제포럼 연설에서 미국의 까다로운 비자 규제가 해외 컴퓨터 학도들의 미국 유입을 막아 소프트웨어 산업에서 미국의 지위에 심각한 위협이 되고 있다고 경고한 바 있다.

국무부의 이번 조치에 대해 닐스 하셀모 미국대학연합 회장은 “수천 명의 유학생들에게 불편을 가중시키고 미국에서 공부하기를 꺼리게 했던 불필요한 부담을 제거한 상식적인 개혁”이라고 환영했다.

김재영 기자 redfoot@donga.com