中기술 발전 맞춰… 삼성-SK ‘中공장 반도체장비’ 반입 기준 높인다

美, 반도체장비 규제 1년 연장 대신
韓-대만기업에 별도기준 마련 전달
“공장가동 가능해 불확실성 사라져”
장기 유예 합의땐 韓반도체 청신호

중국 장쑤성 우시 SK하이닉스의 반도체 D램 생산 공장. 동아일보DB

한국과 미국이 삼성전자와 SK하이닉스 중국 반도체 공장에 대해 별도의 장비 반입 기준을 마련하되 중국 기술 발전에 따라 이 기준을 상향 조정하기로 의견을 접근한 것으로 알려졌다. 현재는 일정 수준 이상의 반도체를 생산하는 데 필요한 장비의 중국 반입을 원천적으로 금지하고, 한국 기업에 대해선 올 10월까지 규제를 1년 유예한 상태다.

한미 당국이 이 같은 방향으로 규제 개선 조치를 마련할 경우 10월 종료되는 두 기업의 중국 공장에 대한 반도체 장비 반입 규제 유예가 더 길게 연장될 것으로 전망된다. 또 공장도 질적 업그레이드를 할 수 있게 돼 사업 불확실성이 완화될 것이라는 기대가 나온다.

● 규제 상향 조정에 “한미 이견 거의 없어”

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미 상무부는 한국과 대만 반도체 기업에 별도의 장비 반입 기준을 마련하겠다는 뜻을 한국에 전달한 것으로 9일(현지 시간) 알려졌다. 10월까지 한시적으로 적용한 대(對)중국 반도체 장비 반입 규제 유예를 1년 단순 연장하는 대신 이같이 방향을 튼 것이다. 이 경우 특정 기술 수준 이상의 장비는 중국 반입이 규제되지만 이 기준 이하 장비 반입은 상무부의 별도 심사 없이 들일 수 있게 된다.

특히 한미 당국은 중국 반도체 기술의 발전 속도에 따라 국내 기업에 적용될 반도체 장비 반입 기준을 추후 상향할 수 있도록 하는 방안에 공감한 것으로 알려졌다. 반도체 산업 관계자는 “국내 기업에 적용될 반도체 장비 반입 규제 기준이 중국 반도체 산업 상황에 따라 변동될 필요성이 있다는 데 이견은 거의 없는 것으로 안다”고 말했다.

다만 국내 기업에 적용될 별도 기준은 한미 당국이 현재 논의 중인 것으로 알려졌다. 한 소식통은 “별도 기준을 비롯한 구체적인 사안은 결론이 나지 않은 상황”이라며 “미국은 국내 반도체 기업의 중국 공장 등 기존 반도체 공급망을 교란시키는 조치는 바람직하지 않다는 뜻을 전해왔다”고 말했다.

정부는 그간 1년 유예 연장을 넘어 다년 유예 등 국내 기업의 불확실성을 해소할 수 있는 근본적인 조치를 미국에 요구해 왔다. 산업부 관계자는 10일 “(규제 유예가 종료되는) 10월 이후 갑자기 장비 공급이 안 되거나 하는 문제가 발생할 가능성은 별로 없을 것”이라며 “미국 측도 반도체 공급망에 최대한 차질이 없어야 한다는 데는 인식을 같이하고 있다”고 설명했다.

앞서 이창양 산업통상자원부 장관도 9일 기자간담회에서 “미 반도체법 가드레일(안전장치)은 중국에 있는 우리 반도체 기업 경영과 관련된 문제”라고 밝혔다. 이어 “기술 업그레이드나 제한적인 범위에서 우리 기업에 피해가 가지 않도록 미 측의 초안 마련 과정에서 우리에게 더 도움이 되는 방향으로 협의를 진행하고 있다”며 “10월 후에도 상당 기간 연장이 될 것으로 기대하고 있다”고 했다. 반도체 규제 유예 장기 연장은 물론 국내 반도체 기업의 기술 업그레이드 가능성을 열어놓는 데도 긍정적으로 전망한 것이다.

● 韓 반도체 불확실성 해소 기대

반도체 수출이 부진한 가운데 한미가 반도체 장비 반입 규제 장기 유예에 합의하면 국내 반도체 기업에는 일단 청신호가 켜질 것으로 전망된다. 국내 반도체 업계는 “아직 구체적인 결정이 나지 않은 상황이라 언급하기 조심스럽다”면서도 “실제 시행이 되면 불확실성이 사라질 수 있어 긍정적”이라고 평가했다.

한 반도체 업계 관계자는 “최악의 경우 중국에서 공장을 빼야 한다는 이야기가 나오던 상황에서 최대한 공장 가동을 허용하는 방향으로 논의가 되는 점은 긍정적”이라고 말했다. 또 다른 관계자도 “반도체 공정의 수많은 장비 상당수를 미국에서 들여오기 때문에 이번 조치가 성사되면 중국 공장의 기술 업그레이드가 가능할 것으로 보인다”며 “신규 라인을 대폭 확장하진 못하더라도 계속 사업을 할 수 있다는 점에서 불확실성이 사라지는 셈”이라고 밝혔다.

다만 구체적인 반입 규제 기준을 두고 줄다리기는 계속될 것으로 전망된다. 미국은 지난해 10월 16㎚(나노미터·1㎚는 10억분의 1m) 이하 로직칩, 18㎚ 이하 D램, 128단 이상 낸드플래시를 생산하는 장비를 중국에 판매할 경우 별도 허가를 받도록 했다. 국내 기업에 대한 별도 기준은 이보다 높은 한도가 적용될 가능성이 크다.