미쓰비시도 반도체 소재 공장 신설…TSMC 日공장 진출 영향

포토레지스트 공장 신설…생산 능력 2배로↑

미쓰비시(三菱)케미컬그룹(이하 미쓰비시)은 일본에 새로운 반도체 소재 공장을 신설한다고 니혼게이자이신문(닛케이)이 25일 보도했다.

보도에 따르면 미쓰비시는 불화아르곤(ArF)용 포토레지스트(감광재) 고분자 소재 공장을 건설해 2025년 3월까지 가동을 목표로 한다. 기존 요코하마(?浜)시 쓰루미(鶴見) 공장과 합해 미쓰비시의 해당 소재 생산 능력이 2배로 늘어날 전망이다. 구체적인 공장 신설 장소는 알려지지 않았다.

불화아르곤용 포토레지스트 고분자 소재는 미세 반도체 회로를 만드는 데 필수적인 소재다. 미쓰비시는 불순물이 적은 해당 소재를 만드는 데 강점을 가지고 있다.

전 세계 포토레지스트 중 일본 세력 점유율은 90%에 달한다. 미쓰비시의 이번 공장 신설이 일본 공급망 강화로 연결될 것이라고 신문은 짚었다.

신문에 따르면 일본에서는 대만 TSMC가 구마모토(熊本)현에 공장을 마련하는 등 투자를 하자, 현지 기업들도 관련 투자에 나서고 있다.

이에 앞서 포토레지스트 대기업인 도쿄응화공업은 후쿠시마(福島)현, 구마모토현에서 증설 투자를 하기로 결정했다. 거점을 분산해 자연재해 등이 닥쳐와도 사업을 지속하려는 계획이다.

미쓰비시는 석유화학사업 재편도 추진하고 있다. 고성장이 예상되는 고기능 제품을 강화해 이익 확대를 꾀한다.

[서울=뉴시스]