원자 이미지 수십 수백배 확대 기술 개발

국내 연구진이 원자 이미지를 이용한 전자빔 리소그래피 원천기술을 세계 최초로 개발했다.

교육과학기술부는 6일 서울대 재료공학부 김기범(사진) 교수팀이 차세대 나노소자의 핵심기술인 나노 패턴 형성 기술을 개발했다고 발표했다.

연구팀이 ‘원자 이미지 이용 전자빔 리소그래피 기술(AIPEL)’로 이름 붙인 이 기술의 핵심은 고분해능 투과전자현미경을 통해 얻은 옹스트롱(나노미터의 10분의 1) 크기의 원자 이미지를 수십 내지 수백 배로 확대하는 것이다.

김 교수는 “기존에 나노소자를 만드는 기술이 일일이 손으로 책을 옮겨 적는 것이었다면 이번 기술은 속도가 빠른 등사 인쇄에 비유할 수 있다”며 “원자 이미지가 나노소자를 대량 생산할 수 있는 일종의 등사기 역할을 하는 셈”이라고 말했다.

연구팀은 원자 단위에서 조작하는 이번 기술을 사용해 나노 소자를 생산할 때 크기 밀도 거리를 정확하게 조절할 수 있을 것으로 전망했다.

이번 연구 성과는 재료와 나노기술 분야 국제 학술지 어드밴스트 머티리얼스 2007년 12월호에 게재됐다.

이정호 동아사이언스 기자 sunrise@donga.com