검찰이 SK하이닉스의 반도체 국가핵심기술과 삼성전자 계열사의 첨단 기술이 중국 경쟁업체에 유출된 정황을 포착해 관련자들을 무더기로 재판에 넘겼다.
서울중앙지검 형사12부(부장검사 조상원)는 국가정보원 산업기밀보호센터와 공조해 D램 반도체 관련 국가핵심기술과 첨단기술을 유출한 A사 관계자 등 17명을 산업기술보호법 위반 혐의 등으로 기소했다고 26일 밝혔다.
반도체 장비업체인 A사는 SK하이닉스의 협력회사다.
A사 상무이자 연구소장인 임모(51)씨와 이 회사 영업그룹장인 박모(47)씨는 지난 2018년 8월부터 지난해 6월까지 SK하이닉스의 반도체 관련 국가핵심기술, 첨단기술 및 영업비밀 등을 중국 반도체 경쟁업체에 유출한 혐의를 받고 있다.
유출된 기술은 HKMG(High-K Metal Gate) 반도체 제조 기술, 반도체 세정 레시피 정보 등이다. 이는 10나노급 D램 반도체 제조 공정의 핵심 기술이라고 한다. 임씨 등은 SK하이닉스와의 협력 과정에서 해당 기술을 취득해 중국 업체에 유출한 혐의를 받고 있다.
아울러 이 회사 공정그룹장인 윤모(53)씨 등 3명은 지난 2017년 3월부터 지난해 8월까지 삼성전자 자회사인 반도체 장비업체 B사의 세정장비 관련 첨단기술을 불법 취득해 중국 수출용 반도체 세정장비 개발에 사용한 혐의를 받고 있다.
B사는 세계 최초로 초임계 세정장비를 개발했는데, 윤씨 등은 B사 전직 직원 등으로부터 관련 기술을 몰래 취득했고, 이 기술을 이용해 자체 장비를 만든 혐의를 받고 있다. 다만 해당 제품이 중국에 수출되지는 않은 것으로 전해졌다.
또한 검찰은 A사 법인과 부사장 및 직원, B사 전직 직원 등 12명이 범행에 가담했다고 보고 함께 재판에 넘겼다.
당초 검찰은 국정원으로부터 국내 반도체 핵심 기술이 중국 경쟁업체에 유출된 정황이 있다는 정보를 제공받아 수사에 착수했다.
검찰 관계자는 “기술유출 사건 등 전문 분야 수사 역량을 지속 강화해 반도체 제조업 등 대한민국 기간산업의 국가핵심기술, 첨단기술 국외 유출 사범에 엄정 대응하겠다”고 전했다.
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