국가핵심기술 유출 3년이상 징역… 대법 양형기준은 1년~3년6개월 그쳐

[해외로 새는 첨단기술]
산업계 “법정형보다 턱없이 낮아”
검찰도 “양형기준 상향 시급” 입장
양형위, 18일 처벌강화 추가 심의

대법원 양형위원회(양형위)가 8일 올해 첫 정기회의를 열고 산업기술 유출 범죄의 권고형량을 높이는 방안을 논의했다. 양형위는 18일 회의를 속행한 후 이르면 다음 주 내 심의 결과를 공식 발표할 예정이다. 이후 관계기관 의견 수렴을 거쳐 3월 내에 양형 기준을 최종 의결할 방침이다.

현행 산업기술보호법은 국외 기술 유출의 경우 15년 이하의 징역 또는 15억 원 이하의 벌금에 처하도록 하고 있다. 유출된 기술이 국가핵심기술일 경우 3년 이상의 징역에 처하고 15억 원 이하의 벌금도 함께 선고할 수 있다.

그러나 대법원이 현재 기술 유출 범죄에 적용하는 양형 기준은 징역 1년∼3년 6개월이고, 형을 가중시킬 수 있는 요소를 적용해도 2∼6년에 불과하다. 이 때문에 산업계에선 대법원의 양형 기준이 법정 최고형에 비해 턱없이 낮다는 지적이 제기돼 왔다. 특히 반도체 등 국가핵심기술에 대해서도 일반 영업비밀 유출 범죄와 동일한 양형 기준이 적용되고 있다.

이에 양형위는 △국가핵심기술 국외 유출 및 침해 △방위산업기술 국내외 침해 △저작권 침해 등의 양형 기준을 새로 정하기로 하고 지난해 8월부터 논의를 이어 왔다.

검찰은 국가핵심기술을 해외로 유출한 사범에 대해 최대 징역 12년을 선고할 수 있도록 양형 권고 범위를 늘려야 한다는 입장이다. 검찰 관계자는 “기술 유출범의 처벌을 강화하도록 2019년 법 개정이 이뤄졌지만 양형 기준은 이에 못 미치고 있다”며 “양형 기준 상향이 신속히 이뤄져야 한다”고 강조했다.