반도체 집적도를 현재의 1만배까지 높일 수 있는 획기적 초미세 공정기술이 미국에서 연구중인 한국인 과학자에 의해 개발됐다.
미국 노스웨스턴대 나노공정연구센터 홍승훈박사(33)는 이 대학 차드 미르킨교수와 함께 원자나 분자 굵기의 초미세 전자회로를 만들 수 있는 나노리소그라피(Nanolithography)기술을 개발해 미국의 과학전문지 ‘사이언스’ 15일자 최근호에 발표했다.
홍박사가 개발한 기술은 원자현미경을 이용해 원자나 분자 크기의 글씨나 도형을 만들 수 있는 ‘딥―펜 나노리소그라피(DPN)’.
사이언스지는 “홍박사의 연구는 분자들의 상호작용을 통해 형상을 만드는 ‘다중잉크’를 이용해 5㎚(나노미터·1㎚는 10억분의 1m) 크기의 글씨나 형태를 세계 최초로 만들어낸 것”이라고 평가했다.
서울대 우종천(禹鍾天·물리학과)교수는 “이 기술이 실용화되면 현재 가장 앞선 수준의 반도체에서 사용되는 전자회로의 굵기를 100분의 1로 줄일 수 있어 이론적으로는 반도체 집적도를 1만배까지 높일 수 있다”고 말했다.
〈김학진기자〉jeankim@donga.com