삼성전자는 60나노 공정을 적용해 만든 2기가비트(Gb) 원낸드(사진)를 개발했다고 27일 밝혔다.
이는 반도체 회로선의 폭이 60nm(나노미터·1nm는 10억분의 1m)로 줄어들었음을 뜻한다. 회로선의 폭이 좁아지면 하나의 반도체 원판에 넣을 수 있는 부품 수가 그만큼 많아져 고집적 제품 생산이 가능하다. 원낸드는 속도가 빠르면서도 대용량의 정보를 저장할 수 있는 차세대 퓨전 반도체로 개인용 컴퓨터(PC)와 디지털 카메라, 디지털 TV 등 다양한 제품에 쓰인다.
이상록 기자 myzodan@donga.com