최첨단 HKMG 공정 처음 적용 전력 사용 기존보다 25% 줄여
SK하이닉스는 모바일 D램 제품으로는 처음으로 최첨단 공정인 ‘HKMG(High-K 메탈게이트)’ 공정을 적용한 LPDDR5X(사진) 개발에 성공했다고 9일 밝혔다.
HKMG 공정은 D램 내부의 누설 전류를 막아 전기 축적 용량을 높인 차세대 공정 기술이다. D램의 처리 속도를 빠르게 하면서도 소모 전력을 줄일 수 있도록 한다. 그간 서버용이나 그래픽용 고용량 D램에는 적용돼 왔지만 모바일용 D램으로는 첫 사례다.
SK하이닉스는 최근 LPDDR5X의 양산에 들어가 시장에 제품을 공급하기 시작했다. 이 제품의 동작 속도는 8.5Gbps(초당 기가비트)로 이전 세대 대비 33% 빠르다. 1초 동안 5기가바이트(GB) 크기 영상을 13개 내려받을 수 있는 속도다. 소비전력은 이전보다 25% 줄어 현재 시장에 출시된 모바일 D램 중 전력 효율성이 가장 좋다.
최근 반도체 공정에서도 ESG(환경, 사회, 지배구조)가 화두가 되며 저전력 제품들은 더욱 주목받고 있다. SK하이닉스는 지난해 3월 업계 최대 용량인 18GB LPDDR5를 양산하는 등 시장 흐름에 맞춰 저전력 모바일 D램 개발을 이어왔다.
SK하이닉스는 제품 개발 과정에서도 ESG 가치를 적용하고 있다. LPDDR5X 개발에 참여한 조성권 SK하이닉스 PL은 “제품 테스트 시간을 좀 더 줄이고 설계 단계에서도 최대한 저전력으로 작동할 수 있도록 설계하는 등 기획, 설계, 개발 모든 단계에서 ESG 가치 실현을 위해 함께 노력하고 있다”고 말했다.
곽도영 기자 now@donga.com