中 언론들 “美 수출 제한 덕에 28nm 장비 연내 국내 생산” 주장

미국이 반도체 장비 수출 제한을 가한 덕에 도리어 중국이 올해말 중국 최초로 28나노미터(nm)리소그래피 장비를 납품할 수 있을 것으로 보인다고 중국 언론들이 보도했다.

2일 홍콩 사우스차이나모닝포스트(SCMP)는 지난주 증권일보 등의 보도를 인용해 이같이 전했다.

증권일보의 보도에 따르면 국영 기업인 상하이마이크로전자(SMEE)가 28nm 리소그래피 기계인 SSA/800-10W를 연말까지 납품할 것으로 예상된다.

이 보도 후 신화통신을 포함한 관영 언론도 이를 확인하는 기사를 냈다. SMEE는 지난해 12월 미 상무부가 무역 블랙리스트에 추가한 기업이다. SMEE는 2일 논평 요청에 응하지 않았다.

SMEE는 2020년 초에 그 해 말까지 28nm 기술을 기반으로 한 심자외선(DUV) 리소그래피 기계를 공개할 것이라는 소문이 돈 후로 여러 차례 28nm 노광장비를 성공시켜 국가 인증을 받을 것이라는 소문과 실패를 반복했다.

노광장비는 반도체 칩에 회로를 새기기 위해 필요한 장비다. DUV의 경우 네덜란드 ASML이 생산하는 EUV보다 기술적 수준이 한단계 낮다. SMEE는 네덜란드 반도체 장비 제조업체 ASML과 기술 격차가 10년 이상이 난다. 하지만 미국의 압박으로 네덜란드와 일본 등이 반도체 장비를 수출하지 않는 상황에서 28nm 노광장비의 생산 성공은 큰 도움을 줄 수 있다.

현재 중국은 부분적으로 ASML이 만든 첨단 DUV에 의존하고 있다. ASML은 대만 반도체 제조업체인 TSMC, 삼성전자 및 인텔과 같은 업계 대기업이 스마트폰 및 인공 지능 앱에 쓰이는 최첨단 칩을 만드는 데 사용하는 극자외선(EUV) 리소그래피 기계 중국 판매는 보류했다.

그러나 ASML의 DUV의 향후 출하도 불확실하다. 네덜란드 정부가 9월 1일부터는 트윈스캔 NXT: 2000i를 포함한 가장 정교한 모델을 중국에 판매하기 위해서는 라이선스를 신청하도록 ASML에 요구할 예정이기 때문이다.

중국은 첨단 DUV는 물론이고 ASML의 구형 DUV 모델에 대한 접근권을 잃을 위험도 있다. 로이터 통신의 지난 6월 보도에 따르면, 미국 정부는 ASML의 트윈스캔 NXT: 1980Di처럼 미국 부품을 조금밖에 쓰지 않은 장비라도 중국으로의 운송을 제한할 수 있는 새로운 규칙을 고려하고 있기 때문이다.

중국 내 전문가들은 이런 조치들이 미치는 파장이 막대할 것이라고 본다. 숙성 공정 노드(mature process nodes, 40nm 이상 노드를 만드는 공정으로, 구형 장비를 이용)에서 중국은 일부만 자급자족하고 있기 때문이다.

고급 칩을 제조할 수 있는 기계를 생산할 수 있는 중국의 최고 희망으로 보이는 SMEE는 저가 칩을 만드는 데 사용될 수 있는 해상도 90nm의 ArF 리소그래피 기계를 대량 생산할 수 있다. 하지만 전문가들은 그 생산 과정은 외국의 핵심 소재에 대한 의존도가 매우 높다고 전했다.

(서울=뉴스1)