ASML 2나노 반도체 장비… 첫 생산제품 美인텔에 공급

[美, 피아 구분 없는 경제전쟁]
차세대 파운드리 공정 필수 요소

반도체 기업들의 ‘슈퍼 을(乙)’로 불리는 네덜란드 반도체 장비 기업 ASML이 최첨단 반도체 양산에 필요한 하이NA 극자외선(EUV) 노광장비 첫 제품을 미국 인텔에 공급했다.

블룸버그통신은 22일(현지 시간) ASML이 이 장비를 미국 오리건주의 인텔 D1X 공장으로 배송했다고 보도했다. ASML은 전날 자사 소셜미디어 X(옛 트위터) 계정에 장비가 실린 트럭 등 사진을 올리며 “우리의 첫 하이NA EUV 시스템을 인텔에 배송하게 돼 자랑스럽고 기쁘다”고 밝혔다.

인텔을 비롯해 삼성전자와 TSMC 등 파운드리(반도체 위탁생산) 기업들은 2nm(나노미터·1nm는 10억분의 1m) 선단 공정 진입을 앞두고 치열한 경쟁을 벌이고 있다. 삼성전자는 현재 2025년 양산을 목표로 2나노 파운드리 공정을 준비하고 있다. TSMC도 2025년 2나노 양산 계획을 밝혔으며, 인텔은 내년 상반기(1∼6월) 2나노급에 해당하는 20A 제품을 양산할 예정이라고 밝혔다.

앞서 팻 겔싱어 인텔 최고경영자(CEO)는 이번 차세대 EUV 장비를 가장 먼저 도입할 것이라는 포부를 드러낸 바 있다. 반도체업계 관계자는 “차세대 EUV 장비가 공정 첨단화를 위해 필수적인 요소이긴 하지만 이후 2나노 실제 양산까지는 수많은 시행착오를 거쳐야 한다”며 “차세대 장비를 먼저 도입했다고 해서 2나노 양산을 가장 빨리 한다고 단정지을 수는 없다”고 말했다.



곽도영 기자 now@donga.com