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검찰이 우리나라 반도체 핵심 기술을 중국 회사에 유출한 혐의를 받는 전직 삼성전자 부장에게 1심에서 징역 20년의 중형을 구형했다.
12일 서울중앙지법 형사합의25부(부장판사 지귀연) 심리로 열린 결심공판에서 검찰은 산업기술의 유출 방지 및 보호에 관한 법률 위반 등의 혐의를 받는 김모 씨에게 징역 20년을 선고해 달라고 요청했다. 함께 재판에 넘겨진 전 협력업체 직원 방모 씨에게는 징역 10년을 구형했다.
김 씨는 삼성전자의 18나노 D램 반도체 공정 정보를 무단 유출해 중국 반도체 제조업체 창신메모리테크놀로지(CXMT)의 제품 개발에 사용하게 한 혐의로 올해 1월 기소됐다. CXMT는 중국 유일의 D램 생산업체로, 검찰은 CXMT가 해당 삼성전자 정보를 취득해 기술장벽을 뛰어넘었다고 보고 있다. 검찰은 “기술 유출 범죄는 국가와 피해 기업의 기술적 기반을 흔들 수 있는 중대 범죄”라며 “동종업체가 인재 영입을 빙자해 우리나라 기업이 각고의 노력으로 쌓아온 것을 손쉽게 탈취하는 것을 방치해선 안 된다”고 구형 이유를 설명했다.
김태언 기자 beborn@donga.com